一.背景

硅片清洗剂主要用在单多晶线切割后的硅片表面清洗处理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表♀面洁净如一，特别适用于太阳能硅片清洗，有利于硅片制绒，提高电池片的转化效率；市面常见硅片清洗剂主要有三种，分别是单组份清洗剂，双组份清洗剂，多组分清洗剂；硅片清洗剂大多数呈碱性液体，主要成分是苛性碱、磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、鳌合剂和表面活性剂；双组份硅片清洗剂的A剂主要有钾盐、缓蚀剂、络合剂、助洗剂组成，B剂主要由表面活性剂聚合复配而成。

硅片清洗剂利用化学剥离的原理有效将键入在硅片表面的颗粒、有机物、金属↑离子等污染物去除。清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态（>120h），而不像难清洗的化学吸附状态转化，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，实现了把有害吸附转化为无害吸附。能有效提高外延或扩散工序的成品率。

二.硅片清洗剂

2.1特点

1.对动物油、植物油、矿物油污、悬浮液、碾磨膏的乳化、皂化、洗净性都有很好的表现，对金属离子有很强的剥离、络合、洗净效果；

2.对金属离子有很强的剥离、络合、洗净效果，经检测对油污的洗净率为99%，对铜、铁等金属离子的剥离、络合、洗净效果达到98%以上；

3.低泡产品，适合在超声波●上使用,不会有泡沫溢出；

4.除钾、钠离子以外的金属离子含量不高于50PPm，清洗后的硅片ξ表面无残留,硅片制绒及光电性能好；

5.该清洗剂浓缩度高，可稀释20-50倍，而且该产品ξ　粘度低、高效、环保无磷、无毒；

6.对被清洗的硅片及清洗设备不会产生腐蚀；

2.2技术指标：

2.3适用范围：

适用于多晶硅、硅片及相关的硅片及延伸产品浸渍、喷淋清洗处理。超声波效果更佳。 

2.4硅片配方技术

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